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【中心新闻】CEDR新发展论坛第27期成功举办

发布时间:2024-11-02 01:04:21

2024年10月31日,由武汉大学经济发展研究中心和《经济评论》编辑部联合主办的CEDR新发展论坛第27期成功举行。上海海事大学经济管理学院米晋宏教授和葛劲峰副教授围绕中美科技摩擦这一问题,从不同研究视角分别作了精彩的报告。米晋宏教授的报告题目为《中美科技摩擦的根源与对中国科技的影响——基于专利数据的实证研究》。葛劲峰副教授的报告题目为《科技脱钩还是小院高墙?——基于专利大数据与机器学习对中美贸易冲突的实证分析》。本次讲座由武汉大学经济发展研究中心胡晖教授主持,来自武汉大学的30余名师生在现场参与了此次活动。

米晋宏教授基于全球与中国发明专利的申请、授权与引用数据,首先研究了近十年来中国科技赶超与全球科技格局的演变。发现世界专利的分布在2008年基本由美国和日韩主导,而在2018年则由美国、日韩和中国主导。从所有技术领域来看,中国主要产生了对日韩的替代,对美国不具备显著的替代性。而分析4个主要技术领域上的局部替代效应则发现,中国对美国在电气工程和仪器领域存在26%~29%的替代性。分析历史上日本与美国的科技摩擦过程发现,在摩擦期间日本对美国具有约18%~23%的技术替代性,但在美日贸易冲突结束后,日本对美国的全局技术替代性只有不到2%,且不显著。对具体技术领域的分析发现,冲突的根源在于日本对于美国优势领域产生了替代性。而基于中国的数据同样发现中国在2008~2018年间对美国优势领域产生了显著的替代性,这也解释了中美科技摩擦的根源所在。

紧接着,米教授从“跨国专利在中国,到底是产生技术传播还是技术封锁效应”作了介绍。实证研究发现,在控制其他国家的来华申请不变的情况下,当且仅当对应国家的来华申请提高时,中国对该国的技术替代性也将显著增加,体现出对跨国专利母国的科技赶超能力。最后,米教授介绍了科技出口管制对跨国专利的影响,基于三重差分模型研究发现,科技稅对电气工程领域来华的跨国专利申请造成了显著抑制作用,相比事前平均减少了23%~26%,即中美科技摩擦负向影响的溢出效应比较明显。

葛劲峰副教授从中美科技摩擦政策不断出台,但美国在华的专利申请总量却没有降低这一现象出发,提出文章主要的研究问题“科技脱钩还是小院高墙”?首先介绍了“小院高墙”的识别方法,即基于C-Lasso的机器学习方法,利用PLS识别申请量受到负向冲击的战略性新兴产业组群。而基于C-Lasso的分组结果,通过DID分析框架发现,处理组在政策冲击后受到了显著的负向影响。进一步地,葛教授介绍了文章基于全位的IPC编码的美国专利月度申请面板所做的对“小院高墙”的进一步精准定位和特征研究。发现事实上只有3.3%的IPC编码属于“小院高墙”的范围。最后,基于专利引用和科学论文引用讨论了IPC技术领域“小院”的影响因素,主要有以下三点:对基础科学的依赖程度、美国的科技发展水平和中美科技差距。

两位教授分享结束后,叶初升教授围绕中国与美国优势领域的差异性、中国的实际应对方略、未来创新的方向以及资源配置的流向与嘉宾做了进一步的讨论。胡晖教授也围绕中国与美国的实际技术差距、中国的超大规模市场优势以及中美争霸的现实特点与嘉宾进行了交流。

最后,在互动交流环节中,两位嘉宾和与会师生围绕研究的相关问题进行了激烈的交流和深入的讨论。至此,本次讲座取得了圆满成功。


(通讯员:刘沛瑶)